光刻机技术，又名掩模对准曝光机，是半导体制造中用于芯片图形转移的核心精密光学设备。它属于中国“国家科技重大专项”中的“超大规模集成电路制造装备与成套工艺技术”专项。
该技术通过光复印和刻蚀工艺将掩模版图形转移到硅片上。主要类型包括接触式、接近式和投影式光刻机，其中EUV光刻机采用13.5纳米波长的极紫外光。国产技术方面，清华大学团队在双工件台系统等关键技术上取得突破；上海芯上微装科技股份有限公司自主研发的350nm步进投影光刻机已通过客户验证。
想要了解更多“光刻机技术”的信息，请点击：光刻机技术百科
